第一课
- 导入
目标：需要明白自己所写的代码转化成电路以后大体的结构如何
DC的功能：将RTL级代码所描述的电路图根据工艺库厂商提供的基本单元映射到门级netlist
运行DC需要三个条件：
1.RTL code
2.工艺库文件
3.约束文件
一般DC综合的时候不考虑版图信息，若需要考虑版图则可以从后端提取参数，作为物理约束进行综合。
代码必须先经过完整的功能验证才能保证综合出来的电路是正确的。
- DC综合流程
DC内部会把所有的语言转化成GTECH
GTECH库是Synopsys公司提供的通用的、独立于工艺的元件库。Synopsys公司提供的综合工具DC把综合分为三个步骤进行：synthesis＝translation＋mapping＋optimization。Translation是指把设计的HDL描述转化为GTECH库元件组成的逻辑电路；Mapping是指将GTECH库元件映射到某一特定的半导体工艺库上，此时的电路网表包含了相关的工艺参数。Optimization是根据设计者设定的时延、面积、线负载模型等综合约束条件对电路网表进一步优化的过程。
DC产生的文件早期以.db为后缀，现在以.ddc为后缀，.ddc文件包含时序信息、延时信息、约束信息等，非常全面。
- 延迟计算
电路的延迟 = 器件延迟 + 线延迟
计算线延迟的方式有两种：
1.线负载模式（WLM），以RC模型为基础不同规模的电路工艺库会提供不同的互连线模型（模型提取自已经流片成功的芯片）。
2.拓扑结构模式（Topographical），先使用DC，得出后端中电路的预布局大约是什么结构，再将布局反馈给软件，根据结构计算线延迟。更精确
三种开启拓扑结构模式的方式：
一些其它的命令：
- 实例
在工艺库中一般会有文件名相同的.db和.lib文件，.db文件专门用于DC软件，.lib软件用于供人阅读。
.lib软件可以用library compiler转化为.db文件，dc文件同时支持.ddc文件和.db文件。
dc_shell -topo | tee dc_start.log符号“|”表示管道命令，将符号前面的命令交给后面的操作去完成，在这里是将命令交给tee去记录综合的过程并生成log文件dc_start.log。
在dc_shell里面使用linux命令需要先输入sh。
若不设置工艺库，则在DC中综合出的是JTAG电路图，也就是由DC公司直接提供的库综合出来的
