试样制备实验系列

一、玻璃基板清洗

  选用的玻璃基板通常采用 直径为2、3寸的圆形玻璃板,材质通常为普通玻璃和石英玻璃2类,前者厚度为0.5mm,后者厚度为0.8mm,以便于区分

  1.准备大、中、小3个培养皿、2个量瓶、1个玻璃棒,在最大的那个里面配制食人鱼水;中的里面放去离子体水,小的里面放乙醇

  2.带好橡胶手套和一次性口罩,将培养皿、量瓶、玻璃棒用通风橱处的水冲洗一遍,然后用去离子水清洗,最后拿氮气吹干

  3.将玻璃基板从包装中拆除,用镊子放入培养皿(错落放置、避免用手直接拿取)

  4.拿取浓硫酸和过氧化氢,在通风橱按比例约为2:1进行配制

  5.先由量瓶量取适量的浓硫酸,倒入装有玻璃片的培养皿,然后由另一个量瓶量取浓硫酸量的一半的过氧化氢,倒入装有玻璃片的培养皿,与浓硫酸发生反应,拉下通风橱遮挡窗,用玻璃棒搅拌(务必在通风橱配制、务必先倒浓硫酸后配制过氧化氢、通常50ml的浓硫酸25ml的过氧化氢)

  6.浸泡10分钟

  7.在中号培养皿中放入去离子水(大约为容量的一半)

  8.用镊子夹取清洗液中的玻璃片,在通风橱处冲洗,角度约为60度,小水流冲洗,尽量将玻璃片放低夹紧,避免溅到通风台上;待清洗至表面无清洗液残留时,方可放入去离子水中(常用两个镊子进行操作、注意玻璃片与水流的清洗角度、注意镊子夹取处的清洗)

  9.依次清洗结束后,将装有玻璃片的中号培养皿放入超声波清洗机中,清洗机内的水约为培养皿高度的1/3,避免清洗水进入培养皿

  10.打开清洗机开关,调节功率为90(最右侧),时间为4min(靠功率左侧)

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  11.清洗结束后,往小号培养皿中放入乙醇,容量能让玻璃片浸入即可

  12.将装有玻璃片的乙醇培养皿放入超声波清洗机中,同9、10步骤

  13.在清洗期间,将废液倒入废液瓶中,并清洗使用过的培养皿,待冲洗掉残液后用氮气吹干;废液瓶开口放置在通风橱内,待实验完毕后再封口存好;

  14.清洗结束后,将培养皿取出,用镊子夹取玻璃片,用氮气吹干(尽量不要将出气口直接对着玻璃片正面,应顺着正面的方向吹)待吹干到少量液滴残留时,可用手卡住玻璃片直接吹干,最后放入存放盒;

  15.依次吹干后,将玻璃片装好,将培养皿中的乙醇、去离子水直接倒入水槽中,用清水冲洗掉残留液,清洗量瓶、清洗玻璃棒、再用氮气吹干

  16.将实验用品全部放入原位,清洗完的玻璃片装好带走,将废液瓶封口,存放。

  17.将一次性口罩、橡胶手套、无尘纸等产生的垃圾带走或扔进垃圾箱内

二、喷涂PI膜

三、贴掩膜

选取基板

  1.喷涂在玻璃基板上PI膜

  2.正面用记号笔标记PI膜工艺参数——转速、厚度

  3.玻璃板背面为PI膜

贴防护膜

  1.事先画好二维图,以dxf格式存放

  2.裁减合适的大小,并将其贴在打印纸上,用硬物压紧粘牢

  3.按下打印机后面的扳手,将滚轮抬起,放入打印纸,抬起扳手

  4.开机,打开操作界面,导入文件

  5.排版,设定切割参数,注意切割力度6~7即可

  6.开始切割

  7.将切好的防护膜贴到玻璃基板两侧,在写有标签的一侧贴一层膜,在PI膜那一侧贴上刚刚切割的膜

  8.将制备好的试件放入培养皿中并标注。

四、磁致溅射

西净化间磁控溅射操作步骤

  1.打开压缩空气或者氮气(左边),接好Ar(右边第四路,开关打到竖直为开,减压阀尽量关小一点(不超过4),防止压强过大直接把阀控冲开,建议将减压阀逆时针扭到底,调流量的时候再慢慢打开一点),开电源(电源柜左下方),水箱自动开(报警的话说明循环水没开,就在水箱上先开泵,再开压缩机)
  2.开放气阀,放样品,放靶材(旋下屏蔽罩,拧松四颗螺钉(M2.5),顺时针转一点取下压盖),样品挡板有问题已拆,注意关好靶挡板,关腔室门
  3.关放气阀,开机械泵,开旁抽阀,开真空计,至压强为8Pa以下时,关旁抽阀,开电磁阀,开分子泵(直接按on,出现倒三角符号即开),(不必等待分子泵转速升到820,直接)开插板阀,继续抽真空(10-4pa)
  4.当抽到真空压强后,开流量显示仪电源(ON),等待示数稳定至0附近
  5.开进气阀,这个时候压强会上升,是因为混气室里的气体进入到了真空室,等待一会,等电离计压强不再上升开始下降,最好继续下降到5×10-3以下
  6.开截止间,跟步骤5一样,这个时候压强会上升,等待一会,等电离计压强不再上升开始下降,最好继续下降到5×10-3以下
  7.开阀控(流量仪的左边是Ar,阀控打到中间为开,阀控干万不要打到最左边的清洗了)等待一会儿,确定电离计上的压强没有上升时(在10-3),电离计打到手动,开节流阀(节流阀之前气缸装反了,所以现在操作跟之前是反的),调工艺气流量(Cu一般为28左右),至溅射压强(一般,Cu:0.8-1Pa)。
  8.开直流电源(A、C靶)或射频电源(B靶),调整溅射功率,按On,预溅射一定时间(3min);
  9.开步进电机电源,选择正转或者反转都行,开靶挡板,溅射,时间到后,关挡板,关步进电机,关直流电源或射频电源
  10.流量计示数置0后锁紧,等待流量仪示数稳定(到0附近),关阀控(打到右边),关流量计,关节流阀,等几秒钟,关截止阀,进气阀
  11.关Ar气(减压阀逆时针选到底,开关打到水平状态为关)
  12关插板阀,关分子泵(按下OFF即可,第一个灯开始闪烁,调至309或398可看实际频率或转速)至转速为0,时间较长(约50min)慢慢等待;注意,分子泵转速为0后才能关电磁阀),关电磁阀
  13关真空计,开放气阀,取样品和靶材,关腔门
  14.开真空计,关放气阀,开旁抽阀抽真空保护,抽到8Pa以下后关真空计,关旁抽阀,关机械泵,关电源,关压缩空气或者氮气(左边,只将开关打到水平即可);

五、试样制备结束,可进行实验。

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转载自www.cnblogs.com/Sonny-xby/p/11417619.html
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