集成电路布局，也称为IC布局或IC掩模布局，是对应于构成集成电路组件的金属、氧化物或半导体层的图案的平面几何形状的集成电路的表示。当使用标准工艺时——其中许多化学、热和照相变量的相互作用是已知的并被仔细控制的——最终集成电路的行为在很大程度上取决于几何形状的位置和互连。
布局必须通过设计规则检查，然后将图案转移到半导体器件制造的光刻工艺中使用的光掩模。在IC设计的早期，更简单的日子里，布图是使用不透明的胶带和胶卷手工完成的，这很像PCB设计的早期。现代集成电路布图是借助于集成电路布图编辑软件，甚至自动使用EDA工具，包括地点和路径工具或示意图驱动的布图工具。 手动选择和定位几何形状的操作被非正式地称为“多边形推送”。
知识产权是对技术创新成果的有效保护，知识产权制度可以保护发明创造者的合法权益，并激励技术创新活动。集成电路知识产权的主要保护手段为专利和布图设计，通过详细数据对集成电路专利的发展状况进行研究分析，并对集成电路布图设计登记数据进行统计分析。
集成电路布图设计登记是对集成电路布图成果的保护，申请周期一般为两到三个月。
