现代集成电路中使用 mos晶体管(即 金属,氧化物,半导体),
常见的晶体管有n mos p mos晶体管,n mos gata为1时接通source到drain,为0时断开。p mos gata为0时,接通source到brain,为1时断开。
与非门工作过程:A=1, B=1 --》Y=0
现代集成电路中使用 mos晶体管(即 金属,氧化物,半导体),
常见的晶体管有n mos p mos晶体管,n mos gata为1时接通source到drain,为0时断开。p mos gata为0时,接通source到brain,为1时断开。
与非门工作过程:A=1, B=1 --》Y=0