工程源码： git工程源碼
作者原文（英文版）：URP英文网址
（1）阴影痤疮和渗透
这是产生阴影渗透和痤疮的根本原因：
shadowBias 的偏移的大小： 基于斜率 slope 来动态算出偏移的大小
影物飘离
（2）软阴影的实现： PCSS 相关的逻辑 和SDF
不想再详细的说了
(3)关于阴影遮罩shadowMask对光源数量的限制：
场景中的灯光的个数：
（1）ShadowMask: 最多支持4个mixed的
(2)单帧最多64个 非dirLight, (场景可以支持更多) ，会按照重要性排序，多余的会被忽略
（三）阴影平坠 Shadow Pancaking
平坠对使用 正交投影阴影的 方向光有效
对有固定位置的other光源并不适用
（四）阴影的衰减：
阴影的衰减 要插值两次
第一次： 用着色点在世界空间中的位置 和 maxShadowDistance 的比例
即： 超过maxShadowDistance就衰减为0，所以先算出此点在全局中的强度（这里只考虑 Quality中设置为distance shadowMask的情况， 其实和shadowMask 的计算也区别不大）
第二次： 由shadowMap采样算出的强度（此处 比如取4个点 ，每个点的值 在阴影内为1，不在阴影内为0， 加权求平均）
MixBakedAndRealtimeShadows: 混合baked和实时的阴影强度：包含第三次和第四次
第三次： 算出 shadowMask中的阴影强度（烘焙强度）
shadow = lerp(烘焙强度， 实时阴影强度， 全局强度)
第四次： 应用灯光强度和 第三次算出的shadow做插值
return lerp(1.0, shadow, 灯自身的强度)
最后的总结： 感觉每啥可说的， 最近脑子跟不上了，稍微整理一下。。
（1）感觉很明白的。过几天再来个相似的东西，就有点懵了， 宏观上感觉知道，
（2） 细节上混乱不清了，是在自我欺骗吗 哈哈哈哈哈哈。。。。。
思考，一定要思考 ， 而不是麻木不仁的感觉“这看懂了，这会了，这不难，这很简单”的错觉